反滲透膜的常見污染物及其去除方法
（1）常見污染物的種類
碳酸鈣垢
在阻垢劑添加系統(tǒng)或加酸系統(tǒng)出現(xiàn)故障時會導致給水PH升高，那么碳酸鈣就有可能沉積出來，應盡早發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢沉淀的發(fā)生，以防止生長的晶體對膜表面產(chǎn)生損傷，如早期發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢，可以用降低給水PH值至3.0-5.0之間運行1-2 小時的方法去除。對沉淀時間更長的碳酸鈣垢，則應采用膜專用清洗液進行循環(huán)清洗或通宵浸泡。
注：應確保任何清洗液的PH值不要低于2.0，否則可能會給RO膜元件造成損害，特別是在溫度較高時更應注意，最高的 PH 不應高于 11.0。可使用氨水來提高 PH ，使用硫酸或鹽酸來降低 PH 值。
硫酸鈣垢
請按照膜廠家推薦使用的清洗方法清洗。
金屬氧化物垢
可以使用上面所述的去除碳酸鈣垢的方法，很容易地去除沉積下來的氫氧化物 ( 例如氫氧化鐵 )。
硅垢
對于不是與金屬化物或有機物共生的硅垢，一般只有通過專門的清洗方法才能將他們去除，有關的詳細方法請與公司聯(lián)系。
有機沉積物
有機沉積物(例如微生物粘泥或霉斑)可以使用氫氧化鈉配成溶液清洗去除，為了防止再繁殖，可使用經(jīng)海德能公司認可的殺菌溶液在系統(tǒng)中循環(huán)、浸泡，一般需較長時間浸泡才能有效，如反滲透裝置停用三天時，最好采用消毒處理，請與公司會商以確定適宜的殺菌劑。
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